Strip Type Plasmasystem

80 Plus

Das Plasmasystem 80 Plus wurde für den Halbleitermarkt entwickelt und ist im manuellen wie auch im automatischen Modus sehr einfach zu bedienen. Die Anlage kann mit oder ohne Be- und Entladestationen geliefert werden; jede Stationen lässt sich zudem unterschiedlich konfigurieren. Ohne Stationen ist es möglich, sie in eine Produktionslinie zu integrieren.

Die Software ist sehr übersichtlich und entspricht den aktuellen Standards der Halbleiterindustrie. Die primären Einsatzgebiete sind das Aktivieren und Reinigen von Oberflächen. Aufgrund ihrer hohen Effizienz dauert eine Plasmabehandlung mit der 80 Plus nur wenige Sekunden.

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Das Plasmasystem 80 Plus ist mit zwei Elektrodenkonfigurationen verfügbar

Konfiguration IoN


Eine elektromagnetische Strahlung mit einer RF von 13,56 MHz wird mittels Elektroden in die Kammer eingespeist, um einen Oberflächenbeschuss durch beschleunigte Ionen zu erreichen. Neben diesem physikalischen Effekt ist auch ein chemischer Effekt vorhanden, dieser ist jedoch geringer als bei Verwendung der Mikrowellenfrequenz.

Konfiguration GIGA


Ist das Plasmagerät mit einem Mikrowellengenerator ausgestattet, wird eine Frequenz von 2,45 GHz verwendet. Es befinden sich keine Elektroden in der Kammer, die Mikrowellen werden außerhalb der Vakuumkammer erzeugt und anschließend über Antennen oder Hohlleiter eingespeist. Ein Plasma mit dieser Konfiguration arbeitet ausschließlich chemisch.

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