Plasmasysteme / Für die Halbleiterindustrie
Prozesse im Front End / Back End Bereich
- Entfernung von Fotolacken
- Gleichmäßige Entfernung sehr dünner Schichten von Fotolack
- Mikrowellenplasma zur Entfernung von Opferschichten
- Ätzprozess zur Entfernung von Polymeren
- Aktvierung und Reinigung von Oberflächen
- Kanten ätzen von Solarzellen
Front End Anlagen
Bei den Front End Systemen handelt es sich um Plasma Systeme mit manueller oder automatischer Beladung, die entweder als kostengünstiges Batch System oder als Einzelscheibensystem (Einzelwaferanlagen) für höhere Ansprüche an die Prozessergebnisse verfügbar sind. Die Anlagen werden meist im Bereich der Lithographie der Waferfab eingesetzt, um Fotolack zu entfernen oder die Wafer für einen nachfolgenden Schritt vorzubereiten.
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Back End Anlagen
Die Metrology & Plasma Solutions bietet die Anlagen als Batch Systeme für Plasma Prozesse mit mehreren Magazinen gleichzeitig oder als automatisierte Anlagen (Stryp Type Systeme) an, in dem die Streifen vom Magazin in mehreren Spuren parallel in die Kammer geladen und prozessiert werden. Anschließend werden sie wieder in Magazine geladen, je nach gewünschter Ausführung. Die Anwendungen zum Reinigen und Aktivieren sind vielfältig, vom Wire Bonding über BGA und Flipchip Prozesse bis zu Mold Underfill und Verkapseln der fertigen Bauelemente.
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